從昆山電路板上去除關鍵的金屬抗蝕刻層錫-鉛和錫有兩種方法。它們通常分為使用過氧化物溶液或非過氧化物（酸基)溶液。在下面的段落中會進行具體的描述。

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1.過氧化物溶液

過氧化物是一種很強的氧化劑，所以所有與它接觸的設備都將用塑料結構。另外，許多產(chǎn)物還含有會腐蝕玻璃的氫化氟銨。由于過氧化物反應要放出熱量，需使用螺旋冷卻器。熱和氫化氟銨都會引起層壓板的損傷，因此在設定工藝指南之前，需要考慮昆山電路板層壓板與溶液的兼容性。

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2. 非過氧化物溶液

非過氧化物去膜劑是硝酸或氟硼酸基溶液，其工藝過程用單步或者兩步。單步工藝通常是用噴淋方法，兩步工藝既有浸泡方法又有噴淋方法。非過氧化物去膜劑不放熱，不會損傷昆山電路板層壓板_a當然，某一種層壓板在使用去膜劑之前，也要考慮層壓板與溶液的兼容性。通常非過氧化物去膜劑比過氧化物去膜劑發(fā)生反應的速度要慢。使用氟硼酸基溶液時,噴淋設備的材料中絕對不能含有鈦，因為氟硼酸會與鈦快速反應。

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